विवरण
हाम्रो कम्पनीले ग्रेफाइट, सिरेमिक र अन्य सामग्रीको सतहमा CVD विधिद्वारा SiC कोटिंग प्रक्रिया सेवाहरू प्रदान गर्दछ, ताकि कार्बन र सिलिकन युक्त विशेष ग्यासहरूले उच्च तापक्रममा प्रतिक्रिया गर्दा उच्च शुद्धता SiC अणुहरू, लेपित सामग्रीको सतहमा जम्मा गरिएका अणुहरू, SIC सुरक्षात्मक तह गठन।
मुख्य विशेषताहरु
1. उच्च तापमान ओक्सीकरण प्रतिरोध: तापमान 1600 C को रूपमा उच्च हुँदा ओक्सीकरण प्रतिरोध अझै धेरै राम्रो छ।
2. उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरिनेशन अवस्था अन्तर्गत रासायनिक वाष्प निक्षेप द्वारा बनाईएको।
3. कटाव प्रतिरोध: उच्च कठोरता, कम्प्याक्ट सतह, ठीक कणहरू।
4. जंग प्रतिरोध: एसिड, क्षार, नुन र जैविक अभिकर्मक।
CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
| SiC-CVD गुणहरू | ||
| क्रिस्टल संरचना | FCC β चरण | |
| घनत्व | g/cm ³ | ३.२१ |
| कठोरता | Vickers कठोरता | २५०० |
| अनाज आकार | μm | २~१० |
| रासायनिक शुद्धता | % | ९९.९९९९५ |
| गर्मी क्षमता | J·kg-1 · K-1 | ६४० |
| उदात्तीकरण तापमान | ℃ | २७०० |
| फेलेक्सरल शक्ति | MPa (RT 4-बिन्दु) | ४१५ |
| युवाको मोडुलस | Gpa (4pt बेन्ड, 1300℃) | ४३० |
| थर्मल विस्तार (CTE) | 10-6K-1 | ४.५ |
| थर्मल चालकता | (W/mK) | ३०० |
