एपिटेक्सियल प्रक्रियाले एकल क्रिस्टल सब्सट्रेटमा सब्सट्रेटको रूपमा समान जाली व्यवस्थाको साथ एकल क्रिस्टल सामग्रीको वृद्धिलाई जनाउँछ। यसलाई धेरै अल्ट्रा-उच्च शुद्धता ग्रेफाइट भागहरू र SIC कोटिंगको साथ ग्रेफाइट आधार चाहिन्छ। सेमीकन्डक्टर एपिटेक्सीको लागि प्रयोग गरिएको उच्च शुद्धता ग्रेफाइटसँग अनुप्रयोगहरूको विस्तृत दायरा छ, जुन उद्योगमा प्रायः प्रयोग हुने उपकरणहरूसँग मेल खान सक्छ, एकै समयमा, यो अत्यन्त उच्च छ। शुद्धता, समान कोटिंग, उत्कृष्ट सेवा जीवन, र अत्यन्त उच्च रासायनिक प्रतिरोध र थर्मल स्थिरता।