उच्च शुद्धता ट्यान्टलम कार्बाइड उत्पादन अनुकूलन

छोटो विवरण:

TaC कोटिंग उच्च तापमान प्रतिरोधी सामग्रीको नयाँ पुस्ता हो, SiC भन्दा राम्रो उच्च तापक्रम स्थिरताको साथ, जंग प्रतिरोधी कोटिंग, अक्सिडेशन प्रतिरोधी कोटिंग, पहिरन प्रतिरोधी कोटिंग, 2000 ℃ भन्दा माथिको वातावरणमा प्रयोग गर्न सकिन्छ, एयरोस्पेस अल्ट्रा-मा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। उच्च तापमान तातो अन्त भागहरू, अर्धचालक एकल क्रिस्टल वृद्धि र अन्य क्षेत्रहरूको तेस्रो पुस्ता।

हामीलाई इमेल पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

उत्पादन ट्यागहरू

सेमिसेराले विभिन्न कम्पोनेन्टहरू र क्यारियरहरूको लागि विशेष ट्यान्टलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग्स प्रदान गर्दछ।सेमिसेरा सेमिसेरा अग्रणी कोटिंग प्रक्रियाले उच्च शुद्धता, उच्च तापक्रम स्थिरता र उच्च रासायनिक सहिष्णुता, SIC/GAN क्रिस्टल र EPI तहहरूको उत्पादन गुणस्तर सुधार गर्न ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) कोटिंग्स सक्षम गर्दछ।ग्रेफाइट लेपित TaC ससेप्टर), र प्रमुख रिएक्टर घटकहरूको जीवन विस्तार। ट्यान्टालम कार्बाइड टीएसी कोटिंगको प्रयोग किनारा समस्या समाधान गर्न र क्रिस्टल वृद्धिको गुणस्तर सुधार गर्न हो, र सेमिसेराले ट्यान्टलम कार्बाइड कोटिंग टेक्नोलोजी (CVD) लाई अन्तर्राष्ट्रिय उन्नत स्तरमा पुग्न सफलता हासिल गरेको छ।

वर्षौंको विकास पछि, सेमिसेराले टेक्नोलोजीलाई जितेको छCVD TaCअनुसन्धान र विकास विभागको संयुक्त प्रयासमा। SiC वेफर्सको वृद्धि प्रक्रियामा दोषहरू देखा पर्न सजिलो हुन्छ, तर प्रयोग पछिTaC, भिन्नता महत्त्वपूर्ण छ। तल TaC सँग र बिना वेफर्सको तुलना छ, साथै एकल क्रिस्टल वृद्धिको लागि सेमिसेराका भागहरू

विकास एकल क्रिस्टलको लागि ट्याक भाग

एन्टिवेयर ट्यान्टालम कार्बाइड कोटिंग_ उपकरणलाई पहिरन र क्षरणबाट सुरक्षित गर्दछ विशेष छवि

TaC लेपित रिंग संग ग्रेफाइट

TaC संग र बिना

TaC प्रयोग गरेपछि (दायाँ)

थप रूपमा, सेमिसेराको TaC कोटिंग उत्पादनहरूको सेवा जीवन लामो छ र SiC कोटिंगको तुलनामा उच्च तापमानमा बढी प्रतिरोधी छ। प्रयोगशाला मापन डेटाको लामो समय पछि, हाम्रो TaC ले अधिकतम 2300 डिग्री सेल्सियसमा लामो समयसम्म काम गर्न सक्छ। हाम्रा केही नमूनाहरू निम्न छन्: