सिलिकन एकल क्रिस्टल तान्नको लागि क्रूसिबल

परिचय:

1. सामग्री चयन: फोटोभोल्टिक उद्योगले सिलिकन एकल क्रिस्टलको शुद्धताको लागि धेरै उच्च आवश्यकताहरू भएकोले, फोटोभोल्टिक उद्योगमा सिलिकन एकल क्रिस्टल तान्नको लागि क्रुसिबलहरूले सामान्यतया उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट सामग्रीहरू प्रयोग गर्दछ। यी ग्रेफाइट क्रुसिबलहरूमा अत्यधिक उच्च शुद्धता र कम अशुद्धता सामग्री हुनु आवश्यक छ कि उत्पादित सिलिकन एकल क्रिस्टलहरूमा कम अशुद्धता एकाग्रता छ, जसले गर्दा सौर्य कक्षहरूको दक्षतामा सुधार हुन्छ।

2. शुद्धता नियन्त्रण: फोटोभोल्टिक उद्योगमा सिलिकन एकल क्रिस्टल तान्नको लागि क्रुसिबलको शुद्धतालाई निर्माण प्रक्रियाको क्रममा कडा रूपमा नियन्त्रण गर्न आवश्यक छ। क्रुसिबल भित्र शुद्धता सुनिश्चित गर्न र अशुद्धता को उपस्थिति कम गर्न निर्माताहरु सामान्यतया विभिन्न विधिहरु, जस्तै उच्च-तापमान ग्रेफाइट गर्मी उपचार, रासायनिक सफाई र विशेष कोटिंग्स लिन्छन्।

3. पग्लिएको पोखरी आकार नियन्त्रण: फोटोभोल्टिक उद्योगमा सिलिकन एकल क्रिस्टल तान्नको लागि क्रुसिबलहरूले पग्लिएको पोखरीको आकारमा राम्रो नियन्त्रण गर्न आवश्यक छ। यो सुनिश्चित गर्न को लागी कि सिलिकन सामाग्री पिघलने र वृद्धि प्रक्रिया को समयमा एक स्थिर आकार कायम गर्न सक्छ, उच्च गुणस्तर सिलिकन एकल क्रिस्टल प्राप्त गर्न को लागी। विशेष क्रुसिबल डिजाइनहरू र तल्लो आकारहरू आवश्यक पिघल पूल आकार नियन्त्रण प्राप्त गर्न अपनाउन सकिन्छ।

4. तापक्रम एकरूपता: फोटोभोल्टिक उद्योगमा सिलिकन एकल क्रिस्टलहरू तान्नका लागि क्रुसिबलहरूमा क्रुसिबल भित्र समान तापक्रम वितरण सुनिश्चित गर्न राम्रो थर्मल चालकता हुनु आवश्यक छ। यसले सिलिकन एकल क्रिस्टलको एकरूपता सुधार गर्न र अशुद्धता र दोषहरूको गठन कम गर्न मद्दत गर्दछ।

5. जंग प्रतिरोध र तातो प्रतिरोध: फोटोभोल्टिक उद्योगमा प्रयोग हुने सिलिकन एकल क्रिस्टल क्रुसिबलहरूमा उच्च तापक्रममा सिलिकन सामग्रीहरूसँग सम्पर्कमा हुँदा हुन सक्ने रासायनिक प्रतिक्रियाहरूको सामना गर्न राम्रो क्षरण प्रतिरोध र गर्मी प्रतिरोध हुनु आवश्यक छ। यसले क्रुसिबलको स्थिरता र दीर्घकालीन विश्वसनीयता कायम राख्न मद्दत गर्दछ।